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工業(yè)CT是一款大觀察視野、無(wú)損3DX射線微焦點(diǎn)計(jì)算斷層掃描系統(tǒng),是一款能滿足多種3D表征和檢測(cè)需求的成像解決方案,不僅能夠在3D全景中展示完整大樣品的內(nèi)部細(xì)節(jié),還能針對(duì)小樣品使用大的幾何放大倍數(shù)實(shí)現(xiàn)高分辨率和高襯度成像觀察細(xì)節(jié)特征。工業(yè)CT系統(tǒng)主要用于檢測(cè)產(chǎn)品缺陷、孔隙率、氣泡、裂紋、探傷、3D數(shù)模比對(duì)、逆向重塑、斷層掃描測(cè)量等應(yīng)用領(lǐng)域廣泛。相比醫(yī)用CT,工業(yè)CT可完成:1、缺陷檢測(cè)、定位與特性描述2、各部件相對(duì)位置的確定3、確定物體的密度梯度,評(píng)價(jià)均勻性4、尺寸和公差的精密...
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計(jì)量CT能在對(duì)檢測(cè)物體無(wú)損傷條件下,以二維斷層圖像或三維立體圖像的形式,清晰、準(zhǔn)確、直觀地展示被檢測(cè)物體的內(nèi)部結(jié)構(gòu)、組成、材質(zhì)及缺損狀況。計(jì)量CT部件的發(fā)展現(xiàn)狀輻射源射線源常用X射線探傷機(jī)和直線加速器。X射線機(jī)的峰值能量范圍從數(shù)十到450keV,且射線能量和強(qiáng)度都是可調(diào)的;直線加速器的射線能量一般不可調(diào),常用的峰值射線能量范圍在1一16MeV。其共同優(yōu)點(diǎn)是切斷電源以后就不再產(chǎn)生射線,焦點(diǎn)尺寸可做到微米量級(jí),甚至納米量級(jí)。探測(cè)器目前常用的探測(cè)器主要有高分辨CMOS半導(dǎo)體芯片、平...
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工業(yè)CT在1917年由J.Random提出,但直到1970年代中后期才開始大量應(yīng)用于無(wú)損檢測(cè)。近年來,隨著計(jì)算機(jī)科學(xué)的進(jìn)步及探測(cè)器技術(shù)的發(fā)展,工業(yè)CT的性能逐年提高。工業(yè)CT無(wú)損檢測(cè)由于其適應(yīng)材料廣、可檢測(cè)復(fù)雜零件、可確定缺陷位置和大小、檢測(cè)精度高,目前已作為一種實(shí)用化的無(wú)損檢測(cè)手段,廣泛應(yīng)用于航空航天、核能等多種領(lǐng)域。工業(yè)CT能在對(duì)檢測(cè)物體無(wú)損傷條件下,以二維斷層圖像或三維立體圖像的形式,清晰、準(zhǔn)確、直觀地展示被檢測(cè)物體的內(nèi)部結(jié)構(gòu)、組成、材質(zhì)及缺損狀況,被譽(yù)為當(dāng)今無(wú)損檢測(cè)和...
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X射線CT方案能較直觀地顯示工件內(nèi)部缺陷的大小和形狀,因而易于判定缺陷的性質(zhì),射線底片可作為檢驗(yàn)的原始記錄供多方研究并作長(zhǎng)期保存,對(duì)薄壁工件無(wú)損探傷靈敏度較高。對(duì)體積狀缺陷敏感,缺陷影象的平面分布真實(shí)、尺寸測(cè)量精確。對(duì)工件表面光潔度沒有嚴(yán)格要求,材料晶粒度對(duì)檢測(cè)結(jié)果影響不大,可以適用于各種材料內(nèi)部缺陷檢測(cè),所以在壓力容器的焊接質(zhì)量檢驗(yàn)中得到廣泛應(yīng)用。但是,X射線CT方法耗用的X射線膠片等器材費(fèi)用較高,底片評(píng)定周期較長(zhǎng),檢驗(yàn)速度較慢,對(duì)厚壁工件檢測(cè)靈敏度低,只宜探查氣孔、夾渣、...
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X射線探傷儀能夠運(yùn)用X射線來發(fā)現(xiàn)被檢查物質(zhì)的缺點(diǎn),原理主要是依據(jù)物質(zhì)衰減性來判別,在整個(gè)檢查過程中能夠不損傷被檢查物,并且被檢查物無(wú)論是金屬仍是非金屬都能適用,現(xiàn)在這種探傷機(jī)運(yùn)用對(duì)比廣泛。在X射線探傷儀使用過程中必需求考慮到的是運(yùn)用者的安全防護(hù),一般來說,防護(hù)主要會(huì)從時(shí)刻、距離與屏蔽這三方面來進(jìn)行。時(shí)刻指的是操作運(yùn)用探傷儀的時(shí)刻,在有必要的情況下再運(yùn)用,削減一些不必要的運(yùn)用時(shí)刻,并且要有定量,運(yùn)用者超越限制時(shí)刻和規(guī)定值時(shí),不能再進(jìn)行現(xiàn)場(chǎng)工作。X射線探傷儀的使用注意事項(xiàng):1、為...
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